| 发明名称 | Fe‑Pt基烧结体溅射靶及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种烧结体溅射靶，其为含有BN的Fe‑Pt基烧结体溅射靶，其特征在于，与溅射面水平的面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度相对于与溅射面垂直的截面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度的强度比为2以上。本发明的课题在于提供一种溅射靶，其能够制作热辅助磁记录介质中的磁性薄膜，并且能够减少溅射时产生的粉粒。 | ||
| 申请公布号 | CN104781446B | 申请公布日期 | 2017.03.08 |
| 申请号 | CN201380046762.9 | 申请日期 | 2013.10.18 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 荻野真一 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;B22F3/14(2006.01)I;C22C1/05(2006.01)I;C22C5/04(2006.01)I;C22C38/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种烧结体溅射靶，其为含有BN的Fe‑Pt基烧结体溅射靶，其特征在于，与溅射面水平的面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度相对于与溅射面垂直的截面中的六方晶BN(002)面的X射线衍射峰强度的强度比为2以上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||