发明名称 |
THERMAL PROCESSING CHAMBER WITH TOP SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY |
摘要 |
본 발명의 실시예들은 기판 지지 어셈블리의 반대되는 측들에 배치되는 구동 메커니즘 및 가열 어셈블리를 포함하는 열 처리 챔버들을 제공한다. 구체적으로, 가열 어셈블리는 디바이스 측을 위로 하여 기판을 처리하기 위해 기판 지지 어셈블리 아래에 배치되고, 구동 메커니즘은 기판 지지 어셈블리 위에 배치된다. |
申请公布号 |
KR101704159(B1) |
申请公布日期 |
2017.02.07 |
申请号 |
KR20147022469 |
申请日期 |
2013.01.14 |
申请人 |
어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 |
发明人 |
세레브리아노브, 올레그;래니쉬, 조셉 엠.;헌터, 아론 뮤어 |
分类号 |
H01L21/324;H01L21/02 |
主分类号 |
H01L21/324 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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