发明名称 THERMAL PROCESSING CHAMBER WITH TOP SUBSTRATE SUPPORT ASSEMBLY
摘要 본 발명의 실시예들은 기판 지지 어셈블리의 반대되는 측들에 배치되는 구동 메커니즘 및 가열 어셈블리를 포함하는 열 처리 챔버들을 제공한다. 구체적으로, 가열 어셈블리는 디바이스 측을 위로 하여 기판을 처리하기 위해 기판 지지 어셈블리 아래에 배치되고, 구동 메커니즘은 기판 지지 어셈블리 위에 배치된다.
申请公布号 KR101704159(B1) 申请公布日期 2017.02.07
申请号 KR20147022469 申请日期 2013.01.14
申请人 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 发明人 세레브리아노브, 올레그;래니쉬, 조셉 엠.;헌터, 아론 뮤어
分类号 H01L21/324;H01L21/02 主分类号 H01L21/324
代理机构 代理人
主权项
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