发明名称 光学素子の製造方法及び反射防止構造体の作製方法
摘要 非平坦面全体に反射防止構造体を均一にかつ容易に作製できる光学素子の製造方法を提供することを目的とする。巨視的な非平坦面である第1光学面11dを有する光学素子である光学要素アレイ100の製造方法であって、第1光学面11dを複数領域に区分けし、区分けされた複数領域のうち第1の領域に対して島状のマスクを形成する第1マスク形成工程と、第1マスク形成工程により島状のマスクが形成された第1の領域をエッチングして、第1の領域に反射防止構造体51を形成する第1エッチング工程と、第1エッチング工程後、複数の領域のうち第1の領域と異なる第2の領域に対して島状のマスクを形成する第2マスク形成工程と、第2マスク形成工程により島状のマスクが形成された第2の領域をエッチングして、第2の領域に反射防止構造体51を形成する第2エッチング工程とを備える。
申请公布号 JPWO2014112593(A1) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 JP20140557512 申请日期 2014.01.17
申请人 コニカミノルタ株式会社 发明人 平田 健一郎
分类号 G02B1/118;G02B5/02 主分类号 G02B1/118
代理机构 代理人
主权项
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