发明名称 |
一种抛光组合物 |
摘要 |
本发明涉及一种抛光组合物,属于化学机械抛光(CMP)领域。本发明所述组合物包含氧化铈粉,酸性二氧化硅溶胶,表面保护膜形成剂,唑类化合物及氧化铈二氧化硅桥联剂,去离子水;各组分配比为:氧化铈粉5~30wt%;酸性二氧化硅溶胶0.1~5wt%;氧化铈二氧化硅桥联剂0.01~0.5wt%;表面保护膜形成剂0.1~2wt%;唑类化合物0.1~1wt%;去离子水余量。本发明为适应超薄玻璃在低压条件下的快速抛光,开发出一种新的抛光组合物,可在低压下明显提升玻璃抛光速率,获得粗糙度更低的玻璃表面。 |
申请公布号 |
CN106189873A |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201610584904.2 |
申请日期 |
2016.07.22 |
申请人 |
清华大学;深圳清华大学研究院 |
发明人 |
王同庆;顾忠华;黄灿荣;顾敏敏;王鑫;潘国顺 |
分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
主分类号 |
C09G1/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
李志东 |
主权项 |
一种抛光组合物,其持征在于,所述组合物包含氧化铈粉,酸性二氧化硅溶胶,表面保护膜形成剂,唑类化合物及氧化铈二氧化硅桥联剂,去离子水;各组分配比为:<img file="FDA0001056862770000011.GIF" wi="1278" he="551" />所述组合物适用于超薄玻璃在低压条件下的抛光。 |
地址 |
100084 北京市海淀区100084-82信箱 |