发明名称 具有晶体管单元和增强单元的半导体器件
摘要 提供了具有晶体管单元和增强单元的半导体器件。一种半导体器件包括晶体管单元(TC)和增强单元(EC)。每个晶体管单元(TC)包括与漂移结构(120)形成第一pn结(pn1)的本体区(115)。晶体管单元(TC)可以在第一控制信号(C1)超过第一阈值(Vthx)时在本体区(115)中形成反型沟道(115x)。反型沟道(115x)形成漂移结构(120)与第一负载电极(310)之间的连接的一部分。延迟单元(400)生成第二控制信号(C2),第二控制信号(C2)的后沿相对于第一控制信号(C1)的后沿延迟。增强单元(EC)在第二控制信号(C2)下降到低于比第一阈值(Vthx)低的第二阈值(Vthy)时在漂移结构(120)中形成反型层(120y)。反型层(120y)作为少数电荷载流子发射极起效。
申请公布号 CN105720054A 申请公布日期 2016.06.29
申请号 CN201510975028.1 申请日期 2015.12.23
申请人 英飞凌科技股份有限公司 发明人 R.巴布尔斯克;M.戴内泽;C.耶格;J.G.拉文
分类号 H01L27/06(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L29/739(2006.01)I 主分类号 H01L27/06(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 张凌苗;王传道
主权项 一种半导体器件,包括:晶体管单元(TC),包括与漂移结构(120)形成第一pn结(pn1)的本体区(115),所述晶体管单元(TC)配置为在所述本体区(115)中形成反型沟道(115x),在第一控制信号(C1)超过第一阈值(Vthx)时,所述反型沟道(115x)形成所述漂移结构(120)与第一负载电极(310)之间的连接的一部分;延迟单元(400),配置为生成第二控制信号(C2),所述第二控制信号(C2)的后沿相对于所述第一控制信号(C1)的后沿延迟;以及增强单元(EC),配置为在所述第二控制信号(C2)下降到低于比所述第一阈值(Vthx)低的第二阈值(Vthy)时在所述漂移结构(120)中形成反型层(120y),其中所述反型层(120y)作为少数电荷载流子发射极起效。
地址 德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号
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