发明名称 |
电浆处理系统之控制方法及设备 |
摘要 |
明揭露一种藉由量测RF驱动电浆中之RF电压信号来补偿在晶圆之偏电压的方法及设备,其包含至少一静电夹盘(ESC)、一电容分压器、一信号处理和信号调节网路。偏压补偿装置包含用以侦测在ESC之RF电压的电容分压器、用以滤波化感兴趣之特定RF信号之信号调节网路、以及用以从滤波化RF信号来计算DC晶圆电位之信号处理单元。 |
申请公布号 |
TWI531023 |
申请公布日期 |
2016.04.21 |
申请号 |
TW099140093 |
申请日期 |
2010.11.19 |
申请人 |
兰姆研究公司 |
发明人 |
微寇尔 小约翰C |
分类号 |
H01L21/683(2006.01);H05H1/46(2006.01);G01R19/25(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/683(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
许峻荣 |
主权项 |
一种电浆处理系统之控制方法,包含:从一RF感应机构经由一高阻抗路径而获得一RF电压信号,该RF电压信号具有相关于复数RF产生器的复数RF频率,该复数RF频率包含一第一频率及一第二频率,该RF感应机构系一RF杆,其中该RF杆系接近一静电夹盘(ESC)子系统之一组件,其中该组件在电浆形成于一电浆室中时系于具有该电浆之区域之外,其中该RF杆系用于感应该RF电压信号,该RF杆提供该RF电压信号至一电容分压器网路;处理该RF电压信号以产生复数个信号,该复数个信号中之一信号具有该第一频率,且该复数信号中之另一信号具有该第二频率;将一传送函数应用于具有该第一频率之信号及其他具有该第二频率之信号,以导出一晶圆电位;以及提供该晶圆电位作为一控制信号来控制该电浆处理系统之至少一子系统。
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地址 |
美国 |