发明名称 双薄膜电晶体及其制造方法
摘要 膜电晶体包含第一半导体层、闸极、第二半导体层、第一绝缘层、第二绝缘层、第一源极、第一汲极、第二源极及第二汲极。第一半导体层设置于基材上。闸极设置于第一半导体层上。第二半导体层设置于闸极上,第一半导体层及第二半导体层为同一导电型。第一绝缘层设置于第一半导体层与闸极之间。第二绝缘层设置于闸极与第二半导体层之间。第一源极及第一汲极设置于基材与第二绝缘层之间,第一半导体层接触第一源极之一部分及第一汲极之一部分。第二源极及第二汲极设置于第二绝缘层上,第二半导体层接触第二源极之一部分及第二汲极之一部分。
申请公布号 TW201611298 申请公布日期 2016.03.16
申请号 TW103131601 申请日期 2014.09.12
申请人 中华映管股份有限公司 发明人 姜信铨;吕雅茹;陈玉仙;黄彦余
分类号 H01L29/786(2006.01);H01L21/28(2006.01) 主分类号 H01L29/786(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项 一种双薄膜电晶体,包含:一第一半导体层,设置于一基材上;一闸极,设置于该第一半导体层上;一第二半导体层,设置于该闸极上,其中该第一半导体层及该第二半导体层为同一导电型;一第一绝缘层,设置于该第一半导体层与该闸极之间;一第二绝缘层,设置于该闸极与该第二半导体层之间;一第一源极及一第一汲极,设置于该基材与该第二绝缘层之间,且该第一半导体层接触该第一源极之一部分及该第一汲极之一部分;以及一第二源极及一第二汲极,设置于该第二绝缘层上,且该第二半导体层接触该第二源极之一部分及该第二汲极之一部分。
地址 桃园市龙潭区华映路1号