发明名称 |
一种常压等离子体处理装置 |
摘要 |
本发明涉及一种改进型常压等离子体处理装置,包括一阴极板,与所述阴极板相对应的阳极板,所述阴极板和所述阳极板之间接入高频电源,所述阴极板和所述阳极板之间形成高频电场,所述阴极板和所述阳极板之间有一绝缘层,所述阴极板上设置有至少一个通气孔,所述通气孔用以气体的进入,所述通气孔与一气体腔连接,被处理物料设置在所述绝缘层上,本发明的等离子体处理装置可以简单均匀地处理物料,且不需要再真空条件下进行,只要在常压下就能很好的处理需要处理的物料。 |
申请公布号 |
CN103730322B |
申请公布日期 |
2016.02.17 |
申请号 |
CN201310719322.7 |
申请日期 |
2013.12.24 |
申请人 |
苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 |
发明人 |
王红卫;沈文凯 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01)I |
代理机构 |
苏州华博知识产权代理有限公司 32232 |
代理人 |
孟宏伟 |
主权项 |
一种常压等离子体处理装置,包括一阴极板,与所述阴极板相对应的阳极板,所述阴极板和所述阳极板之间接入高频电源,所述阴极板和所述阳极板之间形成高频电场,其特征在于,所述阴极板的厚度大于所述阳极板的厚度,所述阴极板和所述阳极板之间有一绝缘层,所述阴极板上设置有至少一个通气孔,所述通气孔用以气体的进入,所述通气孔与一气体腔连接,被处理物料设置在所述绝缘层上,所述气体腔为相互间隔设置的圆柱形,所述气体腔的内径大于所述通气孔的内径,所述气体腔的一端与所述通气孔连接,所述气体腔的另一端与所述绝缘层连接。 |
地址 |
215011 江苏省苏州市苏州高新技术产业开发区泰山路2号(博济科技园内) |