发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
摘要 <p>(A), (B), (C), (D) 및 (E) 를 함유하는 감광성 수지 조성물을 사용하여 얻어지는 패턴은 높은 내열성과 발액성을 겸비하는 것이다. (A) 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 구조 단위와, 탄소수 2∼4 의 고리형 에테르 구조를 갖는 불포화 화합물에서 유래하는 구조 단위를 포함하는 공중합체 (단, 탄소수 4∼6 의 퍼플루오로알킬기를 갖는 불포화 화합물에서 유래하는 구조 단위는 갖지 않는다) (B) 탄소수 4∼6 의 퍼플루오로알킬기를 갖는 불포화 화합물에서 유래하는 구조 단위를 포함하는 중합체 (C) 중합성 화합물 (D) 중합 개시제 (E) 용제</p>
申请公布号 KR101539809(B1) 申请公布日期 2015.07.27
申请号 KR20110086343 申请日期 2011.08.29
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;H01L51/50 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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