发明名称 Substrat mit kristallinen Halbleitergebieten mit unterschiedlichen Eigenschaften
摘要 <p>Substrat zur Herstellung von Transistorelementen mit: einer kristallinen Halbleiterschicht; einem ersten kristallinen Halbleitergebiet, das auf der kristallinen Halbleiterschicht gebildet ist und eine erste Eigenschaft aufweist, die eine kristallographische Orientierung und/oder eine Halbleitermaterialart und/oder eine intrinsische Verformung repräsentiert; einem zweiten kristallinen Halbleitergebiet, das auf der kristallinen Halbleiterschicht gebildet ist und eine zweite Eigenschaft, die sich von der ersten Eigenschaft unterscheidet, aufweist und eine kristallographische Orientierung und/oder eine Halbleitermaterialart und/oder eine intrinsische Verformung repräsentiert; und einer Flachgrabenisolationsstruktur, die lateral das erste und das zweite Halbleitergebiet trennt.</p>
申请公布号 DE102004064248(B3) 申请公布日期 2015.05.07
申请号 DE20041064248 申请日期 2004.11.30
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 发明人 WEI, ANDY;KAMMLER, THORSTEN;HORSTMANN, MANFRED;RAAB, MICHAEL
分类号 H01L29/04;H01L21/20;H01L21/336;H01L21/762;H01L21/8238;H01L27/092 主分类号 H01L29/04
代理机构 代理人
主权项
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