发明名称 |
Substrat mit kristallinen Halbleitergebieten mit unterschiedlichen Eigenschaften |
摘要 |
<p>Substrat zur Herstellung von Transistorelementen mit: einer kristallinen Halbleiterschicht; einem ersten kristallinen Halbleitergebiet, das auf der kristallinen Halbleiterschicht gebildet ist und eine erste Eigenschaft aufweist, die eine kristallographische Orientierung und/oder eine Halbleitermaterialart und/oder eine intrinsische Verformung repräsentiert; einem zweiten kristallinen Halbleitergebiet, das auf der kristallinen Halbleiterschicht gebildet ist und eine zweite Eigenschaft, die sich von der ersten Eigenschaft unterscheidet, aufweist und eine kristallographische Orientierung und/oder eine Halbleitermaterialart und/oder eine intrinsische Verformung repräsentiert; und einer Flachgrabenisolationsstruktur, die lateral das erste und das zweite Halbleitergebiet trennt.</p> |
申请公布号 |
DE102004064248(B3) |
申请公布日期 |
2015.05.07 |
申请号 |
DE20041064248 |
申请日期 |
2004.11.30 |
申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES, INC. |
发明人 |
WEI, ANDY;KAMMLER, THORSTEN;HORSTMANN, MANFRED;RAAB, MICHAEL |
分类号 |
H01L29/04;H01L21/20;H01L21/336;H01L21/762;H01L21/8238;H01L27/092 |
主分类号 |
H01L29/04 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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