基板の選択性酸化のための方法および装置

摘要

プロセスチャンバ内での金属に対する選択性酸化を改良するための方法および装置が本明細書で提供される。いくつかの実施形態では、１つまたは複数のチャンバ壁によって画定される処理体積を有するプロセスチャンバ内に配置された基板の第１の表面を酸化する方法が、第１の表面を酸化するために基板を酸化ガスに露出させること；および、酸化ガスに基板を露出させながら、１つまたは複数のチャンバ壁の少なくとも１つを能動加熱して、１つまたは複数のチャンバ壁の温度を、少なくとも水の露点である第１の温度まで上昇させることを含むことがある。【選択図】図１