反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクブランクの品質管理方法

摘要

本発明は、基板、露光光を反射する反射多層膜、及び前記露光光を吸収する吸収層をこの順で有する反射型マスクブランクにおいて、前記反射多層膜の表面又は前記反射多層膜と前記吸収層との間に形成される一の層の表面に凹状又は凸状に形成され、前記反射多層膜の基準位置を示す基準マークをさらに有し、該基準マークは、該基準マークの周辺とは所定波長の光に対する反射率が異なるように形成され、前記基準マーク上に成膜される層に転写される、反射型マスクブランクに関する。