检测装置及方法、微影装置、微影处理制造单元及元件制造方法

摘要

本发明判定一基板上之一周期性目标(诸如，一晶圆(W)上之一光栅(30))之不对称性属性。一检测装置具有一宽频带照明源(702)，其中照明光束(716、716')在一高数值孔径接物镜(L3)之光瞳平面714中为点镜像式。经由该接物镜(L3)而自相对于该基板之平面为镜面反射式之一第一方向及一第二方向来照明该基板(W)及该目标(30)。一个四边形楔光学元件(QW)分离地重新引导自该基板所散射之辐射之绕射阶，且使绕射阶与沿着该第一方向及该第二方向中每一者之照明分离。举例而言，针对每一入射方向来分离第零阶(0、0')及第一阶(-1、+1')。在多模光纤(MF)中之俘获之后，使用光谱仪(S1至S4)以量测作为波长之一函数的该等经分离重新引导绕射阶之强度(I0'(λ)、I0(λ)、I+1'(λ)及I-1(λ))。此强度可接着用于演算(一堆叠式叠对目标光栅之)叠对误差或重新建构一单一光栅之不对称性参数。;在一替代实施例中，代替使用一白光源，使用一(可调谐)单波长源1002。对于每一单波长，现在将影像投影于量测该等强度之一CCD摄影机(CCD)上，且使用图案辨识以识别经定位有光栅影像之区域且提取该强度。在一另外实施例中，对于在x及y上系周期性之一合成目标，一多重单楔(MSW)光学元件在x及y上分离第一绕射阶(+1y、+1'x、-1'y及-1x)。该多重单楔将该等经分离绕射阶投影至该CCD上以形成起因于不同经分离绕射阶的该目标之空间重叠影像，因此利用更多CCD像素。

主权项

一种用于判定一基板上之一目标之不对称性属性的检测装置，该目标在该基板之一平面中系周期性的，该检测装置包含：一照明系统，其经组态以提供辐射之复数个波长；一光学系统，其包含一物镜且经组态以经由该物镜而用该辐射自相对于该基板之该平面为镜面反射式之一第一方向及一第二方向来照明该目标；一光学元件，其包含复数个楔，该等楔经组态以分离地重新引导自该基板所散射之辐射之绕射阶；一或多个侦测器，其经组态以在该复数个波长下量测该等经分离重新引导绕射阶之属性；及一处理器，其经组态以使用在该复数个波长下所量测之该等属性来判定该目标之不对称性属性。