发明名称 | 用于辐射吸收度测量的装置及其校准方法 | ||
摘要 | 在此说明了一种用于辐射吸收度测量的装置以及一种用于校准这种装置的方法。这种装置包括一个辐射源(4,16),该辐射源发射具有在0.2μm到20μm的区间内的波长的电磁辐射;一个检测所述电磁辐射的检测器(2);当处于一种测量模式时,在到达所述检测器之前,所述辐射的至少一部分已经穿过一种介质并且在离所述辐射源(4,16)一段距离处已经被一个表面(5)反射。该装置的特征在于,所述装置进一步包括一个流体校准单元(8),这个流体校准单元被适配为安排在所述辐射源(4,16)与所述检测器(2)之间的电磁辐射的路径中。这种用于校准辐射吸收度测量装置的方法包括以下步骤:发射具有在0.2μm到20μm的区间内的波长的电磁辐射,引导所述电磁辐射的至少一部分穿过一个流体校准单元(8)并且检测所述电磁辐射。 | ||
申请公布号 | CN102575982B | 申请公布日期 | 2014.12.31 |
申请号 | CN200980162144.4 | 申请日期 | 2009.10.28 |
申请人 | 奥普斯公司 | 发明人 | 斯万特·瓦林;列夫·尤内鄂斯 |
分类号 | G01N21/31(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/31(2006.01)I |
代理机构 | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人 | 苏蕾;郑霞 |
主权项 | 一种用于辐射吸收度测量的装置,包括: 一个辐射源(4,16),该辐射源发射具有在0.2μm到20μm的区间内的波长的电磁辐射, 一个检测所述电磁辐射的检测器(2),当处于一种测量模式时,在到达所述检测器(2)之前,所述辐射的至少一部分已经穿过一种介质并且已经在离所述辐射源(4,16)一段距离处被一个表面(5)反射, 所述装置进一步包括一个流体校准单元(8),该流体校准单元被适配为安排在所述辐射源(4,16)与所述检测器(2)之间的电磁辐射的路径中, 其特征在于, 所述流体校准单元(8)是可移动的,并且被适配成安排在 一个第一位置中,其中所述辐射在到达所述检测器(2)之前穿过所述流体校准单元(8),或者 一个第二测量模式位置中,其中所述辐射到达所述检测器(2)而未穿过所述流体校准单元(8)。 | ||
地址 | 瑞典富鲁隆德 |