| 发明名称 |
离子植入组成、系统及方法;ION IMPLANTATION COMPOSITIONS, SYSTEMS, AND METHODS |
| 摘要 |
本发明描述用于植入掺杂剂物种的离子植入组成物、系统及方法。本发明描述特殊的硒掺杂剂来源组成物并使用共流气体来实现在诸如配方转换、离子束安定性、离子源寿命、离子束均匀性、离子束电流及经营成本等植入系统特性上的优点。 |
| 申请公布号 |
TW201445619 |
申请公布日期 |
2014.12.01 |
| 申请号 |
TW103107470 |
申请日期 |
2014.03.05 |
| 申请人 |
尖端科技材料股份有限公司 |
发明人 |
帛尔欧雷格;史温尼约瑟夫Ｄ;唐瀛;瑞理查Ｓ |
| 分类号 |
H01L21/265(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/265(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>蔡坤财</name><name>李世章</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
