带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法，将带有台阶的衬底薄膜放入臭氧等离子刻蚀机，在一定温度下表面处理一定时间，经过上述处理后带有台阶的衬底薄膜表面亲水有利于薄膜的附着，将配置好的银纳米线胶体通过上述涂覆技术形成薄膜，晾干后就可以得到在带有台阶的平面上的透明导电薄膜，使用压片机将上述薄膜进行压力处理后，可显著提高薄膜的导电性，再在使用旋涂仪在薄膜表面旋涂一层薄膜保护，提高薄膜的稳定性，从而在带有台阶的平面上实现高透明度、高导电性的透明导电薄膜的制备。本发明方法成本低，产量高，操作简单，可制备的薄膜面积大，而且均匀性好可以进行大规模生产。

主权项

带台阶的平面上制备透明导电薄膜的方法，其特征在于包括以下步骤：（1）表面亲水处理：将带有台阶的衬底薄膜带有台阶一面向上放入臭氧等离子刻蚀机中，在20‑25℃的条件下表面处理3‑6分钟；（2）刮涂制备透明导电薄膜：使用3M胶带沿着薄膜将其固定在钢化薄膜板上，利用刮涂方法将配置好的10‑15mg/ml的银纳米线胶体滴在薄膜上，然后用玻璃棒在薄膜表面来回刮涂几次后，将薄膜干燥；（3）重复步骤（2）两次，总共刮涂3层银纳米线薄膜；（4）压力处理提高薄膜导电性：取一片未用臭氧等离子刻蚀机处理过的衬底薄膜覆盖在刮涂好的银纳米线薄膜表面，放入压片机，加压至5‑30MPa后立即泄压；（5）在薄膜表面旋涂一层旋涂物质，提高薄膜稳定性：将步骤（4）所得的薄膜放入旋涂仪，在薄膜表面旋涂一层旋涂物质，转速为4000‑5000rpm，旋涂时间为40‑60秒，最后将旋涂好的薄膜放在加热板上，在95‑105℃温度下干燥2‑3min即可。