研磨用组合物

摘要

本发明提供至少含有水和二氧化硅、且满足以下a)～d)的所有条件的研磨用组合物。a)研磨用组合物中所含的二氧化硅的比表面积为30m²/g以上。b)含有2质量％以上具有10nm以上且50nm以下的粒径的二氧化硅。c)含有2质量％以上具有60nm以上且300nm以下的粒径的二氧化硅。d)前述c)中所述的二氧化硅的平均粒径除以前述b)中所述的二氧化硅的平均粒径而得到的值为2以上。若使用该研磨用组合物，则能够在高速下研磨硬脆材料基板。进而，即使反复使用该研磨用组合物，也能长时间维持其研磨速度。

主权项

一种研磨用组合物，其为至少含有水和二氧化硅的研磨用组合物，其满足以下的所有条件：a)所述研磨用组合物中所含的二氧化硅的比表面积为30m²/g以上、b)所述研磨用组合物含有2质量％以上具有10nm以上且50nm以下的粒径的二氧化硅、c)所述研磨用组合物含有2质量％以上具有60nm以上且300nm以下的粒径的二氧化硅、以及d)所述c)中所述的二氧化硅的平均粒径除以所述b)中所述的二氧化硅的平均粒径而得的值为2以上。