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Bei einem Verfahren zum Betreiben einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage wird ein Facettenspiegel (72) mit Projektionslicht (PL) beleuchtet, das eine Mittenwellenlänge zwischen 5 nm und 30 nm hat. Der Facettenspiegel (72) hat mehrere verstellbare Spiegelfacetten (86), wobei Gruppen benachbarter Spiegelfacetten (86) Bereiche (88) bilden, die von einer Optik (83, 76, 78, 80) derart auf eine Objektebene (30) eines Projektionsobjektivs (20) der Projektionsbelichtungsanlage (10) abgebildet werden, dass sich in der Objektebene (30) die Bilder der Bereiche (88) in einem Objektfeld (88') überlagern. Ein Beleuchtungsfeld (24) wird mit dem Projektionslicht (PL), wobei das Beleuchtungsfeld (24) gleich dem Objektfeld (88') oder einem Teil davon ist. Eine Maske (16), die abzubildende Strukturen (12) enthält, wird in der Objektebene (30) des Projektionsobjektivs (26) derart verfahren, dass das Beleuchtungsfeld (24) die Maske (16) überstreicht. Erfindungsgemäß wird während des Schritts c) die Größe des Beleuchtungsfeldes (24) durch Verstellen mindestens einer Spiegelfacette (86) verändert. |
