消光表面处理之聚醯亚胺膜与关于此膜之方法

摘要

本揭露系关于一基膜，其具有厚度为8至152微米、60度光泽值为2至35、光学密度为大于或等于2以及介电强度为大于1400 V/mil。该基膜系包含经化学转化之(部分或全部为芳族)聚醯亚胺，其量为该基膜之71至96重量百分比。该基膜进一步包含颜料与消光剂。该消光剂之存在量为该基膜之1.6至10重量百分比、具有中值粒径为1.3至10微米并且具有密度为2至4.5 g/cc。该颜料之存在量为该基膜之2至9重量百分比。本揭露亦关于覆盖膜，其包含该基膜并结合黏着层。