发明名称 一种新型法布里-帕罗干涉型MEMS声波传感器
摘要 本发明公开了一种新型法布里-帕罗干涉型MEMS声波传感器,包括准直器、SOI晶片和设置在SOI晶片下面用于支撑SOI晶片和固定准直器的套管,所述的SOI晶片上加工有声敏感薄膜,所述套管的中心轴线与SOI晶片上圆形硅膜的中心法线重合,所述插入套管的光纤准直器端面距离声敏感薄膜的距离为100~300微米。本发明利用带尾纤的光纤准直器端面与硅微薄膜内表面构成法布里-帕罗干涉仪的两个平行面,当外界声波产生的压力作用到薄膜上时将导致薄膜发生形变,从而改变法布里-帕罗干涉腔的腔长。通过对F-P腔长变化量的解调实现对声波信号探测,从而为强电磁干扰环境下提供一种抗干扰能力强、微型化、高灵敏度的传声器。
申请公布号 CN103528665A 申请公布日期 2014.01.22
申请号 CN201310451513.X 申请日期 2013.09.29
申请人 中国电子科技集团公司第二十七研究所 发明人 金长江;师廷伟;王素青;刘勇;张健;李迎春;李晓林;张方;相征;杨军;杜伟梁
分类号 G01H9/00(2006.01)I 主分类号 G01H9/00(2006.01)I
代理机构 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人 刘建芳
主权项 一种新型法布里‑帕罗干涉型MEMS声波传感器,其特征在于:包括准直器、SOI晶片和设置在SOI晶片下面用于支撑SOI晶片和固定准直器的套管,所述的SOI晶片上加工有声敏感薄膜,所述的准直器固定在套管上,并与其套接且准直器的上端面与声敏感薄膜内表面构成法布里‑帕罗干涉仪的两个平行面,两个平行面与SOI晶片的基体构成一个干涉腔;所述套管的中心轴线与SOI晶片上圆形硅膜的中心法线重合,所述插入套管的光纤准直器端面距离声敏感薄膜的距离为100~300μm。
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