发明名称 含粒子之光阻剥离液及使用它之剥离方法
摘要 本发明之课题在于提供一种具优越剥离性的光阻剥离液。另外,提供一种具优越之光阻剥离性,不会损伤电路构造的光阻剥离方法。;而用以解决问题之手段为一种具优越剥离性之光阻剥离液,其系含有一次粒径为5~1,000 nm之粒子、及由胺化合物与伸烷二醇类所构成族群中所选出之至少一种化合物;及一种使用该光阻剥离液之光阻剥离方法,其系不含灰化处理之步骤,具优越之剥离性、不会损伤电路构造。
申请公布号 TWI422996 申请公布日期 2014.01.11
申请号 TW097110460 申请日期 2008.03.25
申请人 富士软片股份有限公司 日本 发明人 关裕之
分类号 G03F7/42;H01L21/027 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址 日本
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