发明名称 |
基于磁流变胶体或磁流变泡沫材料的柔性抛光方法和装置 |
摘要 |
本发明目的在于提供一种基于磁流变胶体或磁流变泡沫材料的柔性抛光方法和装置,解决已有抛光方法抛光效率低、精度低的问题。本发明方法借助于外加磁场可改变磁流变胶体或磁流变泡沫材料刚度的特性,调节弹性抛光垫与被抛光零件的接触压力,实现弹性抛光垫对零件连续抛光,同时由于磁致效应响应时间快,使由磁流变胶体或磁流变泡沫材料进行弹性支撑的弹性抛光垫的刚度动态响应快,从而实现了柔性抛光装置对零件的高效率、高精度抛光。 |
申请公布号 |
CN103465112A |
申请公布日期 |
2013.12.25 |
申请号 |
CN201310394205.8 |
申请日期 |
2013.09.03 |
申请人 |
黑龙江科技大学 |
发明人 |
汤春瑞;赵灿;刘丹丹 |
分类号 |
B24B1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24B1/00(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市智科友专利商标事务所 44241 |
代理人 |
曲家彬 |
主权项 |
一种基于磁流变胶体或磁流变泡沫材料的柔性抛光方法,该方法借助于外加磁场可改变磁流变胶体或磁流变泡沫材料刚度的特性,调节弹性抛光垫与被抛光零件的接触压力,实现弹性抛光垫对零件连续抛光,其特征在于:该方法由以下步骤实现:步骤1、由磁流变胶体或磁流变泡沫材料对弹性抛光垫实现弹性支撑,根据被抛光零件的抛光工艺参数,确定磁流变胶体或磁流变泡沫材料的初始抛光刚度;步骤2、通过抛光设备使抛光磁流变胶体或磁流变泡沫材料随弹性抛光垫旋转和弹性抛光垫与被抛零件表面相对移动,弹性抛光垫与被抛零件表面发生摩擦,实现弹性抛光垫对被抛光零件表面的抛光加工;步骤3、根据被抛光零件的抛光工艺要求,通过改变线圈电流,改变磁流变胶体或磁流变泡沫材料的外加磁场强度,调节磁流变胶体或磁流变泡沫材料的刚度;步骤4、重复步骤2和步骤3,继续实现在不同磁流变胶体或磁流变泡沫材料的刚度状态下,弹性抛光垫对被抛光零件表面的抛光加工。 |
地址 |
150022 黑龙江省哈尔滨市松北区浦源路2468号 |