首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
湿式蚀刻方法及湿式蚀刻装置
摘要
本发明系提供一种湿式蚀刻方法及湿式蚀刻装置,系于不使用光阻剂的情况下,在被处理物的表面进行微细图案的形成。;使溶解有一氧化二氮(N2O)的溶液与被处理物接触,且将紫外光照射在形成有光遮蔽用图案之遮罩所遮断之部分以外之被处理物附近的溶液,而将照射紫外光之区域的被处理物予以湿式蚀刻。
申请公布号
TWI406333
申请公布日期
2013.08.21
申请号
TW095142622
申请日期
2006.11.17
申请人
三菱瓦斯化学股份有限公司 日本
发明人
外赤隆二;田中圭一;东友之
分类号
H01L21/3063
主分类号
H01L21/3063
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
您可能感兴趣的专利
DATA DISTRIBUTION SYSTEM
CASE FOR ELECTRONIC APPARATUS
AIR CONDITIONING SYSTEM AND DESICCANT-TYPE AIR CONDITIONING UNIT
METHOD FOR MANUFACTURING STEEL PRODUCT
SEALED LEAD-ACID BATTERY
DEVICE TO BE CONTROLLED THROUGH 2-WIRE POWER TRANSCEIVING COMMUNICATION
TWO-PHASE SEPARATION RANKINE CYCLE
DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING REDUNDANT PASS
ACTIVE SONOBUOY
OPTICAL FIBER CONNECTING MECHANISM AND OPTICAL FIBER CONNECTING UNIT
STEP-DOWN SWITCHING POWER SUPPLY UNIT
STRUCTURE FOR FIXING CONNECTOR HOUSING TO ELECTRICAL JUNCTION BOX
SPEAKER GRILL AND SPEAKER EMPLOYING IT
REMOTE CONTROL SYSTEM THROUGH PHONE LINE
PORTABLE COMMUNICATION TERMINAL
REMOTE MONITOR CONTROL SYSTEM
PACKAGE FOR BOARD-MOUNTING TYPE ELECTRONIC DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
MOS SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT