发明名称 发射辐射的器件及其制造方法
摘要 一种发射辐射的器件,包括:支承体;设置在支承体上的半导体芯片,其中半导体芯片具有用于产生电磁辐射的有源层和辐射出射面;第一接触结构和第二接触结构,用于电接触半导体芯片;第一接触层和第二接触层,其中半导体芯片通过第一接触层与第一接触结构导电连接,以及通过第二接触层与第二接触结构导电连接;设置在半导体芯片上的钝化层,其中钝化层包括有机聚合物,其具有通式(I),其中残基R1至R16可以分别彼此独立地为H、CH3、F、Cl或者Br,并且n具有10至500,000的值。
申请公布号 CN102216365B 申请公布日期 2013.07.03
申请号 CN200980145223.4 申请日期 2009.11.05
申请人 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 发明人 西格弗里德·赫尔曼;塞巴斯蒂安·塔格尔
分类号 C08G61/10(2006.01)I;H01L31/0216(2006.01)I 主分类号 C08G61/10(2006.01)I
代理机构 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人 许伟群;郭放
主权项 1.一种发射辐射的器件,包括:-支承体(1);-设置在支承体(1)上的半导体芯片(2),其中所述半导体芯片(2)具有用于产生电磁辐射的有源层和辐射出射面(3);-第一接触结构和第二接触结构(4a,4b),用于电接触所述半导体芯片(2);-第一接触层(21)和第二接触层(6),其中所述半导体芯片(2)通过第一接触层(21)与第一接触结构(4a)导电连接,以及通过第二接触层(6)与第二接触结构(4b)导电连接;-设置在所述半导体芯片(2)上的钝化层(5),其中钝化层(5)包括有机聚合物,所述有机聚合物具有通式(I):<img file="FDA00002723792700011.GIF" wi="1927" he="687" />其中残基R<sup>1</sup>至R<sup>16</sup>分别彼此独立地为H、CH<sub>3</sub>、F、Cl或者Br,并且n具有10至500,000的值。
地址 德国雷根斯堡