| 发明名称 | 透明导电膜及其形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种透明导电膜，包括：基材，位于基材上导电复材，其中导电复材包括导电碳材，与接触导电碳材的具有拉电子基的非碳无机物。本发明还提供上述透明导电膜的形成方法。 | ||
| 申请公布号 | CN103137238A | 申请公布日期 | 2013.06.05 |
| 申请号 | CN201110461274.7 | 申请日期 | 2011.12.26 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 郭信良;黄承钧;黄淑娟 |
| 分类号 | H01B1/04(2006.01)I;H01B1/18(2006.01)I;H01B1/24(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I | 主分类号 | H01B1/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国 |
| 主权项 | 一种透明导电膜，包括：一基材；以及一导电复材，位于该基材上，所述导电复材包括：一导电碳材；以及一表面改性有拉电子基的非碳无机物，其中该导电碳材是与该表面改性有拉电子基的非碳无机物接触，形成该导电复材。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县竹东镇中兴路四段195号 | ||