Autocatalytic-type Co-P plating solution, electroless plating method using the same and Co-P alloys coating layer prepared by the same

摘要

본 발명은 아세트산 코발트 또는 황산 코발트를 금속원으로 사용하고, 차아인산나트륨을 환원제로 사용하며, 착화제로 락트산 및 시트린산 나트륨이 혼합된 도금액에 첨가제로서 DMAB(dimethyl amine borane)을 첨가함으로써, 도금시 피트나 크랙이 감소하고, 매우 치밀한 표면 조직을 가질 수 있어 구리의 확산 방지 효과를 증가시키고, 저온 및 팔라듐 활성화 처리 없이도 도금이 가능한 자기 촉매형 코발트-인 도금액, 이를 이용한 무전해 도금 공정 및 이에 의해 제조된 코발트-인 합금 피막에 관한 것이다.