接近式曝光装置

摘要

本发明涉及一种接近式曝光装置(PE)，其具备：由具有第一定子(31)及与其对置的第一转子(32)的第一直线电动机(30)、和具有第二定子(41)及与其对置的第二转子(42)的第二直线电动机(40)构成的工件驱动部；沿转子(32、42)配设的致冷剂循环通路(35、45)；向致冷剂循环通路(35、45)循环供给致冷剂的致冷剂供给装置(37、47)；和配置于致冷剂循环通路(35、45)的入口(35a、45a)和出口(35b、45b)附近，检测致冷剂流入流出温度的温度传感器(36、46)，基于温度传感器(36、46)的检测值进行温度管理，以使从直线电动机(30、40)传递到基板(W)的热量一定。

主权项

一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：掩模保持部，其保持具有需要曝光的图案的掩模；工件保持部，其保持作为被曝光件的工件；工件驱动部，其驱动所述工件保持部；和照射单元，其借助所述掩模向所述工件照射图案曝光用光，在所述掩模和所述工件互相接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光转印到所述工件上，所述工件驱动部为具有定子和与所述定子对向配置的转子的直线电动机，并具有：沿所述转子配置的转子侧致冷剂循环通路；向所述转子侧致冷剂循环通路循环供给致冷剂的转子侧致冷剂供给装置；和配置在所述转子侧致冷剂循环通路的入口和出口，用于检测所述转子侧致冷剂循环通路的入口附近和出口附近的所述致冷剂的温度的温度传感器，基于所述转子侧致冷剂循环通路的入口附近和出口附近的所述致冷剂的温度执行所述直线电动机的温度管理，使得从所述直线电动机传递到所述工件的热量一定。