灰色调掩模版、灰色调掩模及其制造方法

摘要

提供一种通过修正透光性基板表面上的凹陷缺陷来防止产生复制图形缺陷及掩模图形缺陷的掩模版用透光性基板、掩模版以及曝光用掩模的制造方法、以及曝光用掩模的缺陷修正方法。在透光性基板1上形成构成复制图形的掩模图形2的曝光用掩模上，用针状件4去除尚未形成掩模图形2的基板表面1a上的足以引起产生复制图形缺陷的透光量下降的凹陷缺陷3的周边部分，实施减少基板表面与凹陷缺陷的深度之间的阶差的修正。此外，在透光性基板上形成掩模图形形成用的薄膜之前的阶段内进行上述凹陷缺陷修正。使用实施了凹陷缺陷修正的透光性基板制造出掩模版、曝光用掩模。

主权项

一种液晶显示装置制造用的灰色调掩模版，其特征在于，由以下部分构成：由玻璃材料构成的透光性基板；在透光性基板上的表面上形成的半透光膜；和在所述半透光膜上形成的遮光膜，其中，所述半透光膜的材料为由钼和硅构成的材料，所述半透光膜中含有的所述钼和所述硅的比例即钼∶硅为1∶2～1∶19，并且被调节为针对i线的曝光波长的透光率为10％～80％，所述遮光膜的材料为含有铬和氮的材料，所述遮光膜中含有的氮的含量为10～80at％。