发明名称 Photosensitive compositions
摘要 Provided are radiation-sensitive polymers and compositions which may be used in photolithographic processes. The polymers and compositions provide enhanced sensitivity to activating radiation.
申请公布号 EP2527380(A1) 申请公布日期 2012.11.28
申请号 EP20120180283 申请日期 2010.12.29
申请人 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC 发明人 THACKERAY, JAMES W.;AQAD, EMAD
分类号 C08F220/38;G03F7/004 主分类号 C08F220/38
代理机构 代理人
主权项
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