发明名称 改进的立式连续真空锅
摘要 本发明涉及改进的立式连续真空锅设备,所述立式连续真空锅设备在现有的传统高度内由8个室(2)(而不是4个或5个)和在顶部的存储或缓冲罐(27),其特征在于:每个室具有底部安装的机械循环器,其被设在每个室的蒸汽空间区段(29)中的隔离容器(28)内,而不是在所述室上面的额外空间中。
申请公布号 CN101405412B 申请公布日期 2012.10.31
申请号 CN200680053959.5 申请日期 2006.09.25
申请人 斯普瑞工程装置有限公司 发明人 贾·帕尔卡什·辛格;维平·库马·古普塔;萨罗杰·库马·辛格
分类号 C13F1/02(2006.01)I;C13F1/00(2006.01)I;C13G1/04(2006.01)I;C13G1/06(2006.01)I 主分类号 C13F1/02(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 钟晶
主权项 一种立式连续锅糖结晶设备,所述设备包括:具有垂直轴的圆筒形外壳,其中,多个真空室被重叠设置在公共轴上,一个室叠加在另一个室的上面;每个所述室大体上具有W‑形底部,该底部空间被下面的室的惰性蒸汽所包围;每个所述室具有与其联合的固定的设定值控制器,用于调节糖膏和每小时的排放体积,给定操作室的每小时排放体积大于紧接在其前的操作室的每小时排放体积;供热装置,其包括垂直管式固定环形加热器,其通过来自圆筒形外壳外部的共用供给源的有效加热蒸汽来供热;中央降液管,其中设置了轴流式叶轮或机械循环器;至少一个用于控制下列参数的机构:a)加热蒸汽压力,b)蒸汽压力,c)糖膏状况,d)进料糖浆供给比例和流速,e)进料糖浆与籽晶供给的比例,f)糖膏水平,和g)使用包括重力排放装置的输送装置将糖膏从上面的锅输送到下面的锅;在每个室的底部的糖膏排放管,其配置有由该室的液位传感器来调节的控制阀,并且连接到下一个较低室的糖膏供给管;用于在每个室中引入进料糖浆的入口,其通过由白利糖度传感器调节的控制阀连接到共用的糖浆进料集管;用于连续将籽晶引入到第一操作室中的装置;用于从最后一个真空操作室中连续回收糖浆和产品晶体的出口;用于将蒸汽和不可冷凝物通过共同蒸汽管道排出的装置,该共同蒸汽管道连接到冷凝器/蒸汽再压缩器,并且还配置有用于雾沫分离的装置;用于去除冷凝物的装置;用于通过布置合适的管道为特定的操作室设置旁路的装置;用于清洗的装置,其包括阀控制的蒸汽供给线、热水和冷水供给管,其中清洗排水管连接到室底板中的糖膏排放管,并且受控制阀调节,流出到共用的清洗排水管;每个室都具有在底部安装的机械循环器,除了最低的所有所述机械循环器被安放在紧接其下的室的蒸汽空间区段中的隔离的容器内。
地址 印度钱迪加尔