防尘薄膜、其制造方法以及用该膜贴付的防尘薄膜组件

摘要

本发明提供一种将含有i线、h线、g线的350至450nm的波长领域的紫外线进行照射的光刻工程中适宜的，便宜的耐光性优良的防尘薄膜。本发明的薄膜是在用350至450nm的波长领域的紫外线进行照射的光刻工程中被使用防尘薄膜组件用防尘薄膜。该防尘薄膜的特征是，在原料防尘薄膜的至少曝光光源侧的表面，对350至450nm的波长领域的紫外线的平均透过率为90％以上，同时有对200至300nm的波长领域的紫外线的平均透过率为50％以下的紫外线吸收层。

主权项

一种防尘薄膜，其在350至450nm的波长领域的紫外线照射光刻中被用于在防尘薄膜组件，其特征在于，该防尘薄膜是，其原料防尘薄膜的至少在曝光光源侧的表面上有紫外线吸收层，上述350至450nm的波长领域的紫外线在该紫外线吸收层的透过率为在该波长领域平均90％以上，同时200至300nm的紫外线的在该紫外线吸收层的透过率为在该波长领域中平均50％以下。