一种超精密光学元件的微孔抛光方法

摘要

本发明公开了一种超精密光学元件的微孔抛光方法，包括：1)按抛光液配方(该配方原料的体积配比是：氢氟酸350-400ml、浓硫酸300-350ml、甘油或用乙二醇50-100ml)，混合、搅拌均匀、冷却、陈化、配成抛光液；2)将预抛光的光学元件用掺有丙酮的有机溶剂清洗干净并干燥；3)将清洗好的光学元件不需刻蚀抛光的地方屏蔽起来；4)将配制好的抛光液置于25-50℃的恒温水浴锅中，将光学元件浸入抛光液中浸泡，搅拌溶液，20-30min后取出光学元件，先用3％-7％的氢氧化钠溶液漂洗3-5min，然后用纯水冲洗，最后干燥。本发明方法工艺简单，易操作，而且没有钻蚀现象，既降低了生产成本，缩短了生产周期，又提高了超精密光学元件微孔的表面质量。

主权项

一种超精密光学元件的微孔抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：1)按配方称取原料，混合，搅拌均匀，冷却，陈化，配成抛光液；2)将预抛光的光学元件用掺有丙酮的有机溶剂清洗10min并干燥；3)将清洗好的光学元件不需刻蚀抛光的地方屏蔽起来；4)将步骤1)中配制好的抛光液置于25‑50℃恒温水浴锅中，将光学元件浸入抛光液中浸泡，搅拌溶液，20‑30min后取出光学元件，先用3％‑7％的氢氧化钠溶液漂洗，然后用清水冲洗，最后干燥，即完成超精密光学元件的微孔抛光。