发明名称 |
应用于复数个元件库单元之积体电路设计方法及其相关机体电路设计系统 |
摘要 |
第一元件库单元与第二元件库单元各包含复数层金属层,且第一元件库单元之奇数金属层的轨道方向垂直于第二元件库单元之奇数金属层的轨道方向。应用于该些元件库单元之积体电路设计方法包含:旋转第二元件库单元,使得第二元件库单元之奇数金属层的轨道方向平行于第一元件库单元之奇数金属层的轨道方向;以及将第一元件库单元与第二元件库单元摆放于同一积体电路设计内。 |
申请公布号 |
TWI361362 |
申请公布日期 |
2012.04.01 |
申请号 |
TW097110570 |
申请日期 |
2008.03.25 |
申请人 |
瑞昱半导体股份有限公司 新竹市新竹科学园区创新二路2号 |
发明人 |
刘建成 |
分类号 |
G06F17/50 |
主分类号 |
G06F17/50 |
代理机构 |
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代理人 |
吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3;戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3 |
主权项 |
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地址 |
新竹市新竹科学园区创新二路2号 |