用于太阳能电池应用的硅表面的干法清洁

摘要

公开了一种用于清洁太阳能电池基板的各层的方法和装置。将基板暴露到反应气体，该反应气体可包括具有氮和氟的中性基或者可包括无水HF和水、醇、或者水和醇的混合物。该反应气体可进一步包括载气。该反应气体蚀刻太阳能电池基板表面，去除氧和其它杂质。当暴露到中性基时，基板生长含有六氟硅酸铵的薄膜，随后通过热处理将其去除。

主权项

一种处理太阳能电池基板的层的方法，包括：将太阳能电池基板设置在具有壁的处理室中的基板支架上；提供包括中性基的反应气体混合物至处理室；将反应气体混合物导向基板；使中性基与来自基板的氧反应以在基板上形成薄膜；在形成薄膜期间保持基板温度低于室壁温度；和去除薄膜。