降低叠置偏移的遮罩叠置结构

摘要

一种遮罩叠置图案结构，用于在集成电路制造期间，降低不对称轮廓引起的叠置图案偏移。该遮罩叠置图案结构包含第一遮罩、第二遮罩及应力释放功能装置。第一遮罩用于表示较低层之位置，第二遮罩用于表示较高层之位置，该应力释放功能装置用以释放较高层引起的薄膜应力。不同于一般遮罩叠置图案结构会因薄膜应力产生严重的叠置图案中心偏移，本发明具有数个沟渠围绕切割道，因此，可以改善不对称叠置图案轮廓。

主权项

一种遮罩叠置图案结构，包含：一第一遮罩，以表示一较低层的位置；一第二遮罩，以表示一较高层的位置，其中该第一遮罩和第二遮罩形成遮罩叠置图案；以及半导体基材应力释放功能装置，包括一个或多个围绕切割道的缓冲沟渠，以释放该较高层引起的应力，其中该缓冲沟渠的宽度等于或大于该遮罩叠置图案的宽度。