| 主权项 |
一种平面光源装置，包括：可透光之第一基板及第二基板；至少一支撑部，位于该第一基板以及第二基板之间；至少一放电腔体，形成于该至少一支撑部、第一基板及第二基板之间，且用于射出一可见光源，使该支撑部上方之位置形成一遮蔽区；以及复数个光学几何结构，位于该支撑部以及该放电腔体之上方，沿前述遮蔽区之周围对应分布，且该复数个光学几何结构用于将至少一部份的前述可见光折射并导向前述遮蔽区聚光及射出，使该平面光源装置各处均匀透光。如申请专利范围第1项所述之平面光源装置，进一步具有一透光板设置于该第一基板之上，并设有前述复数个光学几何结构。如申请专利范围第1项所述之平面光源装置，其中该复数个光学几何结构位于第一基板及第二基板两者其中之一上。如申请专利范围第1项所述之平面光源装置，其中该复数个光学几何结构包含至少两个光学几何结构以遮蔽区为中心分置于前述遮蔽区周围两侧，使该两光学几何结构之形状互呈左右对称。如申请专利范围第4项所述之平面光源装置，其中该两光学几何结构为两个形状互呈左右对称之棱镜结构。如申请专利范围第1项所述之平面光源装置，其中该复数个光学几何结构进一步包含至少一光学几何结构系以遮蔽区为中心配置，使该至少一光学几何结构两侧形状呈左右对称。如申请专利范围第4项所述之平面光源装置，其中该两光学几何结构为两个形状互呈左右对称之半凹镜结构。如申请专利范围第1项所述之平面光源装置，其中该复数个光学几何结构包括至少两组各具复数个气泡结构之群组，以遮蔽区为一空间座标之中心，分置于前述遮蔽区周围之左右两侧，且该两气泡结构群组之气泡排列位置在此空间上互呈对称。一种平面光源装置，包括：可透光之第一基板及第二基板；至少一支撑部，位于该第一基板以及第二基板之间；至少一放电腔体，形成于该至少一支撑部、第一基板及第二基板之间，且用于射出一可见光源，使该支撑部上方之位置形成一遮蔽区；以及一透光板具有复数个光学几何结构，位于该支撑部以及该放电腔体之上方，以沿对应该遮蔽区周围分布，且该复数个光学几何结构用于将至少一部份的前述可见光折射，朝向前述遮蔽区聚光并自该透光板射出，使该平面光源装置各处均匀透光。如申请专利范围第9项所述之平面光源装置，其中该透光板为一可透光之压克力板材。如申请专利范围第9项所述之平面光源装置，其中该透光板可设于该第一基板上，当前述可见光经由第一基板射入该透光板时，至少一部份的前述可见光会经该复数个光学几何结构之导引，朝向前述遮蔽区射出。如申请专利范围第9项所述之平面光源装置，其中该透光板可设于该第一基板及第二基板之间，当前述可见光射入该透光板时，至少一部份的前述可见光会经该复数个光学几何结构之导引，朝向前述遮蔽区射出。如申请专利范围第9项所述之平面光源装置，其中该复数个光学几何结构包含至少两个光学几何结构以遮蔽区为中心分置于前述遮蔽区周围两侧，使该两光学几何结构之形状互呈左右对称。如申请专利范围第13项所述之平面光源装置，其中该两光学几何结构为两个形状互呈左右对称之棱镜结构。如申请专利范围第9项所述之平面光源装置，其中该复数个光学几何结构进一步包含至少一光学几何结构系以遮蔽区为中心配置，使该至少一光学几何结构两侧形状呈左右对称。如申请专利范围第13项所述之平面光源装置，其中该两光学几何结构为两个形状互呈左右对称之半凹镜结构。如申请专利范围第9项所述之平面光源装置，其中该复数个光学几何结构包括至少两组各具复数个气泡结构之群组，以遮蔽区为一空间座标之中心，分置于前述遮蔽区周围之左右两侧，且该两气泡结构群组之气泡排列位置在此空间上互呈对称。 |
