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发明名称 Manufacturing method for thin film of poly-crystalline silicon
摘要
申请公布号 KR101011806(B1) 申请公布日期 2011.02.07
申请号 KR20090038444 申请日期 2009.04.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/20;H01L31/0445 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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