发明名称 SUBSTRATE TREATMENT DEVICE AND METHOD
摘要 본 발명은, 보다 클린한 상태에서 기판을 반송 가능한, 기판을 냉각하기 위한 기판 처리 장치 및 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 기판 처리 장치로서의 기판 냉각 장치는, 챔버; 냉각을 행하는 냉각부; 챔버 내에서 기판을 재치하기 위한 기판 재치면을 가지고 있는 동시에, 냉각부에 의해 냉각되는 기판 홀더; 및 챔버 내에서 기판 재치면의 옆쪽을 둘러싸는 측벽부를 갖고 있는 동시에, 냉각부에 의해 냉각되는 실드를 포하한다. 또한, 실드의 내측의 면의 근방에는, 실드 히터가 설치되어 있다.
申请公布号 KR20160078399(A) 申请公布日期 2016.07.04
申请号 KR20167013662 申请日期 2014.10.21
申请人 CANON ANELVA CORPORATION 发明人 KAJIHARA YUJI
分类号 H01L21/67;C23C14/58;H01L21/324;H01L21/687;H01L43/12 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人
主权项
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