| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其包含磨料颗粒、氧化剂、水和如式1所示的甲基苯并三氮唑类化合物；其中，R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>独自的为C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>的烷基，式1中苯环上的甲基(CH<sub>3</sub>)为苯环上任意一个氢被取代了的甲基。本发明的化学机械抛光液能够较好的保护铜表面，降低腐蚀缺陷的产生，并且可以有效的减少阻挡层抛光过程中出现的边缘过腐蚀(EOE)现象。<img file="200810201030.3_AB_0.GIF" wi="296" he="110" /> | ||
| 申请公布号 | CN101724347A | 申请公布日期 | 2010.06.09 |
| 申请号 | CN200810201030.3 | 申请日期 | 2008.10.10 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 姚颖;宋伟红 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 1.一种化学机械抛光液，其特征在于：其包含磨料颗粒、氧化剂、水和如式1所示的甲基苯并三氮唑类化合物；<img file="F2008102010303C0000011.GIF" wi="800" he="309" />式1其中，R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>独自的为C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>的烷基；式1中苯环上的甲基为苯环上任意一个氢被取代了的甲基。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||