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发明名称
荷电粒子束微影设备及装置制造方法
摘要
本发明揭示一荷电粒子束微影设备,其包含一投影系统,该投影系统投射一荷电粒子束,并以所投射的该荷电粒子束在基板上成像一图案。该投影系统包含被组构来产生磁场的对称磁双合透镜,以及被组构来产生叠置于该磁场上之电场的静电透镜。该静电透镜包括一电极,被组构来在至少该对称磁双合透镜之该瞳平面上施加一电位,以加速进入该对称磁双合透镜的该荷电粒子束。
申请公布号
TW200931183
申请公布日期
2009.07.16
申请号
TW097131736
申请日期
2008.08.20
申请人
佳能股份有限公司
发明人
后藤进
分类号
G03F7/20(2006.01);H01J37/30(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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