| 发明名称 | 基板清洗方法和清洗装置 | ||
| 摘要 | 一种基板清洗方法和清洗装置，以2600rpm以上、3500rpm以下的转速旋转正在超声波清洗的基板。这种基板清洗方法和清洗装置，能够实现防止降低生产能力和器件损伤、且能够达到较高的异物清除率的基板清洗。 | ||
| 申请公布号 | CN100463116C | 申请公布日期 | 2009.02.18 |
| 申请号 | CN03120170.9 | 申请日期 | 2003.03.11 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 出口康之 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01);B08B3/12(2006.01) | 主分类号 | H01L21/304(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种基板清洗方法，为通过一边旋转基板、一边从设置在所述基板上侧的喷嘴向所述基板供给施加有超声波的清洗液，来清洗所述基板的基板清洗方法，其特征在于，清洗中的所述基板的转速为2600rpm以上且3500rpm以下，在从所述喷嘴向所述基板供给所述清洗液时，所述喷嘴在所述基板的上侧，从所述基板的端部、穿过所述基板的中心、到从所述基板的中心离开规定的距离的位置进行往复运动。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||