控制系统、光刻投影设备、控制方法和计算机程序产品

摘要

本发明公开了一种控制系统、光刻投影设备、控制方法和计算机程序产品，其中所述控制系统包括：设置用于测量由支撑结构所支撑的衬底的位置的第一测量系统，所述位置在第一坐标系中被测量；用于测量支撑结构在第二坐标系中的位置的第二测量系统，第一测量系统具有在第二坐标系中的假定位置；控制器，其配置用于基于第二测量系统的所进行的测量控制支撑结构的位置，用于将衬底的所测量到的位置转换成在第二坐标系中的支撑结构的所转换的位置，用于基于所转换的位置定位支撑结构，用于接收表示第一测量系统在第二坐标系中的假定位置和实际位置之间的差值的位置误差信号，并用于以依赖于所述位置误差信号的方式对支撑结构进行定位。

主权项

1.一种用于控制光刻设备中的支撑结构(2，12，MT)的控制系统，所述控制系统包括：第一测量系统(19，49)，所述第一测量系统设置用于在第一坐标系中测量由支撑结构支撑的物体(W，18，MA)的位置；第二测量系统(1，3，13，14，15，16，43a，44a)，所述第二测量系统设置用于在第二坐标系中测量支撑结构的位置，所述第一测量系统在第二坐标系中具有假定位置；以及控制器(61)，所述控制器配置用于：基于第二测量系统的测量控制支撑结构的位置，将物体的所测量到的位置转换为在第二坐标系中的支撑结构的所转换的位置，以及基于所转换的位置定位支撑结构；其中，所述控制器还配置用于接收位置误差信号，所述位置误差信号表示在第二坐标系中的第一测量系统(19，49)的假定位置和实际位置之间的差值，以及用于以依赖于位置误差信号的方式控制支撑结构和/或空间图像的位置。