发明名称 旋涂玻璃组合物和在半导体制造工序中使用该旋涂玻璃形成氧化硅层的方法
摘要 公开了一种旋涂玻璃(SOG)组合物和利用SOG组合物形成氧化硅层的方法。该方法包括在具有表面不连续的半导体衬底上涂敷SOG组合物,SOG组合物包含具有化合物化学式-(SiH<SUB>2</SUB>NH)<SUB>n</SUB>-的聚硅氮烷,其中n表示正整数,重均分子量在约3,300至3,700的范围内,以形成平坦的SOG层。通过固化SOG层,将SOG层变为具有平坦表面的氧化硅层。还公开了通过该方法制造的半导体器件。
申请公布号 CN100444331C 申请公布日期 2008.12.17
申请号 CN200410057451.5 申请日期 2004.08.12
申请人 三星电子株式会社 发明人 李祯浩;赵俊贤;崔晶植;李东峻
分类号 H01L21/312(2006.01);C23C18/12(2006.01);H01L21/316(2006.01);H01L21/768(2006.01) 主分类号 H01L21/312(2006.01)
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 林宇清;谢丽娜
主权项 1.一种旋涂玻璃组合物,包括:具有化学式-(SiH2NH)n-的聚硅氮烷,其中n表示正整数,基于组合物的总重量,聚硅氮烷占10至30重量%的量,由此聚硅氮烷具有在3,300至3,700范围内的重均分子量;以及溶剂,基于组合物的总重量溶剂占70至90重量%的量。
地址 韩国京畿道水原市
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