发明名称 |
Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung |
摘要 |
Eine Vorrichtung weist eine Drehbasis (2) auf, eine Annäherungsstufe (3), einen Substrathaltetisch (4) und einen Düsenkopf (5). Der Substrathaltetisch (4) haltert ein Werkstück durch Saugwirkung und gelangt in engen Kontakt mit der Annäherungsstufe und der Drehbasis durch ein erstes und zweites ringförmiges Dichtungsteil (25a und 25b) zur Ausbildung jeweils eines Flüssigkeitsaufnahmeraums (7). Wenn die Saughalterung und der enge Kontakt freigegeben werden, kann sich das Substrat (G) zusammen mit der Drehbasis (2) und der Annäherungsstufe (3) drehen.
|
申请公布号 |
DE102008004817(A1) |
申请公布日期 |
2008.07.24 |
申请号 |
DE20081004817 |
申请日期 |
2008.01.17 |
申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
FUNAKOSHI, HIDEO;HAMADA, MASAHITO;OKAMOTO, YOSHIKI |
分类号 |
G03F7/30;B05C5/02;B05C13/00;G03F1/54;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/30 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|