| 发明名称 | 诸如锗硅碳化物波导的波导及其制作方法 | ||
| 摘要 | 一波导及其制作方法，该方法至少包含在基板上形成第一渐进层，其中第一渐进层至少包含第一和第二光学材料与晶格常数调整材料，其中第二光学材料的浓度随第一渐进层的高度增加，而晶格常数调整材料的浓度与第二光学材料成比例变化；以及形成第二渐进层，该第二渐进层至少包含第一和第二光学材料与晶格常数调整材料，其中第二光学材料的浓度随第二渐进层的高度减少，而晶格常数调整材料的浓度与第二光学材料成比例变化。 | ||
| 申请公布号 | CN100339731C | 申请公布日期 | 2007.09.26 |
| 申请号 | CN02824729.9 | 申请日期 | 2002.12.11 |
| 申请人 | 美商·应用材料股份有限公司 | 发明人 | 阿尔凯帝·V·萨摩罗伏;迪恩·E·贝尔林 |
| 分类号 | G02B6/10(2006.01);G02B6/13(2006.01);H01P11/00(2006.01) | 主分类号 | G02B6/10(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 陈亮 |
| 主权项 | 1.一种形成波导结构的方法，其至少包含以下步骤：在基板上形成第一渐进层，第一渐进层至少包含硅、锗和碳，其中锗和碳的浓度随第一渐进层的高度而增加；以及在第一渐进层上形成第二渐进层，第二渐进层至少包含硅、锗和碳，其中锗和碳的浓度随第二渐进层的高度而减少。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||