发明名称 |
用于净化工艺溶液的方法和装置 |
摘要 |
本发明涉及一种用于净化可用于表面处理中的工艺溶液,特别是净化用于在基材上电镀沉积或自催化沉积金属层的电解液的方法,该方法通过能吸附所述工艺溶液中的杂质的聚合物树脂,而至少部分地除去所述工艺溶液中的杂质,其特征在于使所述工艺溶液与至少两种聚合物树脂连续接触,或使部分所述工艺溶液流与至少两种聚合物树脂平行接触,其中所述的聚合物树脂的物理-化学性质彼此不同。此外,本发明涉及一种用于净化表面处理中的工艺溶液,特别是净化用于在基材上电镀沉积或自催化沉积金属层的电解液的装置,包括至少两个用于容纳聚合物树脂的单元,其特征在于至少两个用于容纳聚合物树脂的单元是流体连通的,这样所述的工艺溶液连续流动通过用于容纳聚合物树脂的单元,或部分的工艺溶液流分别平行流动通过所述的单元,其中用于容纳聚合物树脂的单元容纳物理-化学性质不同的聚合物树脂。 |
申请公布号 |
CN1974879A |
申请公布日期 |
2007.06.06 |
申请号 |
CN200610162832.9 |
申请日期 |
2006.11.24 |
申请人 |
恩通公司 |
发明人 |
克里斯托夫·沃纳;阿克塞尔·富尔曼;安德烈亚斯·默比乌斯 |
分类号 |
C25D21/22(2006.01) |
主分类号 |
C25D21/22(2006.01) |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
郭国清;樊卫民 |
主权项 |
1.一种用于净化能够用于表面处理中的工艺溶液,特别是净化用于在基材上电镀沉积或自催化沉积金属层的电解液的方法,该方法通过能吸附所述工艺溶液中的杂质的聚合物树脂,从而至少部分地除去所述工艺溶液中的杂质,其特征在于,使所述工艺溶液与至少两种聚合物树脂连续接触,或使部分的所述工艺溶液流与至少两种聚合物树脂平行接触,其中所述的聚合物树脂的物理-化学性质彼此不同。 |
地址 |
美国康涅狄格州 |