| 发明名称 |
REPAIRING DAMAGE TO LOW-K-DIELECTRIC MATERIALS USING SILYLATING AGENTS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20070037562(A) |
申请公布日期 |
2007.04.05 |
| 申请号 |
KR20067003765 |
申请日期 |
2004.09.24 |
| 申请人 |
HONEYWELL INTERNATIONAL INC. |
发明人 |
BHANAP ANIL S.;RAMOS TERESA A.;IWAMOTO NANCY;LEUNG ROGER Y.;NAMAN ANANTH |
| 分类号 |
H01L21/3105;H01L21/4763;H01L21/70 |
主分类号 |
H01L21/3105 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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