Chemical vapor deposition apparatus using induction heating method,申请号KR20050005521-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Chemical vapor deposition apparatus using induction heating method
摘要
申请公布号	KR100667074(B1)	申请公布日期	2007.01.10
申请号	KR20050005521	申请日期	2005.01.20
申请人		发明人
分类号	C23C16/452;C23C16/453	主分类号	C23C16/452
代理机构		代理人
主权项
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