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1.一种利用光谱穿透及/或反射测量以决定光学层或光学层系统之物理特性的方法,其特征在于:根据穿透及/或反射测量的光谱,关于该光学层或光学层系统,波长相关折射率n0及/或消光系数k0的参考値从已知的値中被选择或被实验决定,将该层特征化且被实际的折射率n及/或消光系数k表示的对该参考値之偏差系分别由与波长无相关之变化常数Kn及Kk决定。2.如申请专利范围第1项的方法,其中理论的反射及/或穿透値根据折射率n0及消光系数k0的该参考値并根据层厚度的目标値d0而被决定,该理论値利用非线性最佳化被适用于测量的反射及/或穿透値。3.如申请专利范围第2项的方法,其中折射率n0及消光系数k0以及目标层厚度d0的该参考値,其各自具有变化常数Kn、Kk及Kb,被用做该非线性最佳化的开始値,该最佳化关于该变化常数Kn、Kk及Kd被实现。4.如申请专利范围第3项的方法,其中该平均变化常数Kn、Kk及Kd系根据特别是在使用的光的不同波长下在层上之相同点的复数次测量而被决定。5.如申请专利范围第3项的方法,其中该变化常数Kn、Kk及Kd系在层上的复数点处被决定,且被用以决定在层的表面区域上的光学均质性。6.如申请专利范围第2项的方法,其中为了最佳化的目的,评估函数的最小値被决定。7.如申请专利范围第6项的方法,其中在测量的反射及/或穿透値与理论的反射及/或穿透値之间的距离平方的和被用作一评估函数。8.如申请专利范围第6项的方法,其中为了最佳化的目的,一系列的目标层厚度被用作最佳化演算法的开始値,提供该评估函数一最小値的结果被选取。9.如申请专利范围第8项的方法,其中复数値被用于该系列的目标层厚度,该値特别位于最小値与最大値间的相等区间中,其为技术上可能且为将被决定的层所期持。10.如申请专利范围第1项的方法,其中折射率与消光系数的该参考値系利用光谱椭圆测量术而获得。11.如申请专利范围第2项的方法,其中该方法系在被设置以编程的资料处理系统上进行,且特别是在将被决定的层或层系统的折射率及/或消光系数及/或最小値与最大値的期望的层厚度的参考値被输入后完全自动操作,特别包括对那些被采取的测量的控制。图式简单说明:图1系绘示在不同的氧含量之气体中沉积TiO2的情况中作为波长的函数之折射率n。图2系绘示在不同的氧含量之气体中沉积TiO2的情况中作为波长的函数之消光系数k。图3系绘示在玻璃基板上的氧化铟锡(ITO)层之层厚度分布的图式。图4系绘示覆盖大表面区域的基板上之矽层的层厚度分布之图式。 |
