发明名称 改善液晶显示面板之组立偏移的方法与液晶显示面板制程
摘要 一种改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其包括下列步骤。对一第一基板进行一制程步骤,且同时在第一基板上形成一第一对位标记。提供一光罩,且光罩上已形成有一第二对位标记。将光罩设置于一曝光设备内,并且将第一基板送入曝光设备内。使光罩上的第二对位标记与第一基板上的第一对位标记进行对位,并储存一对位资料。先将第一基板移出曝光设备,再将一第二基板移入曝光设备。利用先前储存的对位资料对于第二基板进行定位。以光罩对第二基板进行一第一光罩制程,并同时在第二基板上形成对应第二对位标记的一第三对位标记。
申请公布号 TWI264585 申请公布日期 2006.10.21
申请号 TW093126840 申请日期 2004.09.06
申请人 中华映管股份有限公司 发明人 涂志中;玉鸿典
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 1.一种改善液晶显示面板之组立偏移的方法,包括:对一第一基板进行一制程步骤,且同时在该第一基板上形成一第一对位标记;提供一光罩,且该光罩上已形成有一第二对位标记;将该光罩设置于一曝光设备内,并且将该第一基板送入该曝光设备内;使该光罩上的该第二对位标记与该第一基板上的该第一对位标记进行对位,并储存一对位资料;将该第一基板移出该曝光设备,再将一第二基板移入该曝光设备;利用先前储存的该对位资料对于该第二基板进行定位;以及以该光罩对该第二基板进行一第一光罩制程,并同时在该第二基板上形成对应该第二对位标记的一第三对位标记。2.如申请专利范围第1项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中对于该第一基板所进行之该制程步骤为一彩色滤光基板制程。3.如申请专利范围第2项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中于该第二基板上形成该第三对位标记之后,便利用该第三对位标记作为该第二基板之后续多个光罩制程的对位标记,以于该第二基板上形成一薄膜电晶体阵列。4.如申请专利范围第1项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中对于该第一基板所进行之该制程步骤为一薄膜电晶体阵列制程。5.如申请专利范围第4项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中于该第二基板上形成该第三对位标记之后,便利用该第三对位标记作为该第二基板之后续多个光罩制程的对位标记,以于该第二基板上形成一彩色滤光膜。6.如申请专利范围第1项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中该光罩上的该第二对位标记与该第一基板上的该第一对位标记对位之后所取得的该对位资料系储存于该曝光设备内。7.如申请专利范围第1项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中使该光罩上的该第二对位标记与该第一基板上的该第一对位标记进行对位的步骤中,是固定该光罩的位置而移动该第一基板以进行对位。8.如申请专利范围第1项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中对该第一基板进行该制程步骤包括在该第一基板上形成多数个第一图案区域,且该第一对位标记系形成于各该些第一图案区域的角落。9.如申请专利范围第8项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中该第二对位标记系位于该光罩的角落。10.如申请专利范围第8项所述之改善液晶显示面板之组立偏移的方法,其中对该第二基板进行该第一光罩制程之步骤包括在该第二基板上形成多数个第二图案区域,且该第三对位标记系形成于各该些第二图案区域的角落。11.一种液晶显示面板制程,包括:对一第一基板进行进行一制程步骤,且同时在该第一基板上形成一第一对位标记;提供一光罩,且该光罩上已形成有一第二对位标记;将该光罩设置于一曝光设备内,并且将该第一基板送入该曝光设备内;使该光罩上的该第二对位标记与该第一基板上的该第一对位标记进行对位,并储存一对位资料;先将该第一基板移出该曝光设备,再将一第二基板移入该曝光设备;利用先前储存的该对位资料对该第二基板进行对位;以该光罩对该第二基板进行一第一光罩制程,并同时在该第二基板上形成对应该第二对位标记的一第三对位标记;利用该第三对位标记作为该第二基板的对位标记,对于该第二基板进行多数道光罩制程;以及将该第一基板与该第二基板组立起来并于两者之间形成一液晶层,其中该组立步骤是利用该第一基板上的该第一对位标记与该第二基板的该第三对位标记进行对位。12.如申请专利范围第11项所述之液晶显示面板制程,其中对于该第一基板所进行之该制程步骤为一彩色滤光基板制程。13.如申请专利范围第12项所述之液晶显示面板制程,其中对于该第二基板进行多数道光罩制程包括在该第二基板上形成一薄膜电晶体阵列。14.如申请专利范围第11项所述之液晶显示面板制程,其中对于该第一基板所进行之该制程步骤为一薄膜电晶体阵列基板制程。15.如申请专利范围第14项所述之液晶显示面板制程,其中对于该第二基板进行多数道光罩制程包括在该第二基板上形成一彩色滤光膜。16.如申请专利范围第11项所述之液晶显示面板制程,其中该光罩上的该第二对位标记与该第一基板上的该第一对位标记对位之后所取得的该对位资料系储存于该曝光设备内。17.如申请专利范围第11项所述之液晶显示面板制程,其中使该光罩上的该第二对位标记与该第一基板上的该第一对位标记进行对位的步骤中,是固定该光罩的位置而移动该第一基板以进行定位。18.如申请专利范围第11项所述之液晶显示面板制程,其中对该第一基板进行该制程步骤之步骤包括在该第一基板上形成多数个第一图案区域,且该第一对位标记系形成于各该些第一图案区域的角落。19.如申请专利范围第18项所述之液晶显示面板制程,其中该第二对位标记系位于该光罩的角落。20.如申请专利范围第18项所述之液晶显示面板制程,其中对于该第二基板进行该些光罩制程之步骤包括在该第二基板上形成有多数个第二图案区域,且该第三对位标记系形成于各该些第二图案区域的角落。21.如申请专利范围第20项所述之液晶显示面板制程,其中将该第一基板与该第二基板组立起来并于两者之间形成该液晶层之后,更包括进行一切割制程,以形成多数个液晶显示面板。图式简单说明:图1绘示依照本发明较佳实施例之改善液晶显示面板之组立偏移的方法的流程图。图2A至图2F绘示依照本发明较佳实施例之液晶显示面板制程的示意图。图3绘示依照本发明较佳实施例之液晶显示面板制程的流程图。
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